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氮化铝薄膜的广阔应用前景

发表时间:2021-08-30 11:27作者:化合积电网址:http://www.csmc-semi.com

薄膜材料是现代科学新兴的特殊功能材料,同块体材料相比,薄膜材料具有许多特殊性能,如极薄的厚度产生尺寸效应,由于薄膜材料比表面积很大,会形成显著的表面效应,对表面能、表面态、表面散射和表面干涉均有影响,另外在薄膜材料中还包含有大量的表面晶粒间界和缺陷态,对电子输运性能也影响较大。在基片和薄膜之间还存在有一定的相互作用,因而就会出现薄膜与基片之间的粘附性和附着力问题,以及内应力的问题。这些性能赋予薄膜材料在光、热、电、机械等方面丰富的功能性,薄膜材料现已经广泛应用与信息、微电子、航空技术等高科技领域。


氮化铝(AlN)作为III-V族宽禁带半导体材料,有着许多潜在的优良性能,其制备的氮化铝薄膜材料也具有很多优异的物理化学性质,如高的击穿场强、高热导率、高电阻率、高化学和热稳定性以及良好的光学及力学性能。


高质量的氮化铝薄膜还具有极高的超声传输速度、较小的声波损耗、相当大的压电耦合常数,与Si、GaAs相近的热膨胀系数等特点。AlN独特的性质使它在机械、微电子、光学以及电子元器件、声表面波器件(SAW)制造和高频宽带通信等领域有着广阔的应用前景。


氮化铝主要物理特性


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